Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9364576 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON L'équipement de photorésistance Mark 8 est un outil puissant conçu pour les procédés de lithographie à semi-conducteur. Grâce à la technologie d'imagerie thermique induite par laser, il permet aux développeurs de tracer avec précision des structures de circuits sur des substrats semi-conducteurs. TEL MARK8 est capable d'exposer des substrats à la lumière UV à une longueur d'onde de 248 ou 365 nm sur le plan de la plaquette. Cela permet la formation de petites caractéristiques avec un haut niveau de répétabilité et de fidélité au design original. En outre, le système peut également être utilisé pour exposer des substrats à d'autres longueurs d'onde dont le rayonnement laser et la lumière polarisée. L'unité dispose également d'un certain nombre de fonctionnalités avancées pour contrôler le processus de fabrication. Cela inclut le contrôle du foyer de l'exposition, qui peut être ajusté pour faciliter la résolution la plus élevée des structures sur la plaquette. En outre, TOKYO ELECTRON MARK-8 peut également générer des expositions multiples pour créer un motif souhaité avec une couverture optimale. De plus, la fonction « arrêt de couche » de la machine peut être utilisée pour limiter l'exposition à certaines couches, en veillant à ce que le motif résultant soit la taille et la forme correctes. TOKYO ELECTRON Mark 8 prend également en charge une gamme d'outils et de techniques de lithographie, permettant d'améliorer la précision et le contrôle des variables de processus telles que l'énergie et le focus. Il s'agit notamment de l'imagerie de proximité de résolution de 0,3 micron pour former des structures submicroniques, des techniques d'illumination hors axe et du processus de mélange d'exposition multiple qui permet la formation de structures robustes à haute densité de caractéristiques. Dans l'ensemble, l'outil Mark 8 est un outil important pour les procédés de lithographie à semi-conducteurs. Il est capable de produire des résultats extrêmement précis, même avec des caractéristiques inférieures à un micron. L'actif supporte un certain nombre de techniques de lithographie avancées et offre une gamme de fonctionnalités d'automatisation puissantes. Cela en fait un outil inestimable pour tout développeur cherchant à créer des structures complexes sur des substrats semi-conducteurs.