Occasion KLA / TENCOR / PROMETRIX Omnimap RS-55TCA #9261757 à vendre en France
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Vendu
ID: 9261757
Resistivity mapping system
Includes:
Computer
Monitor
Printer
Robot handler.
L'équipement KLA/TENCOR/PROMETRIX Omnimap RS-55TCA Wafer Testing and Metrology est conçu pour fournir une caractérisation et une analyse complètes de la physique des défauts aux fabricants de semi-conducteurs. Il intègre plusieurs technologies dans un système unifié pour traiter les processus de métrologie des wafers pour les applications de production et de recherche. Les principales caractéristiques de l'unité comprennent : Tapping AFM (Atomic Force Microscopy) : Permet l'imagerie et la mesure en temps réel des nanostructures sur la surface de la plaquette avec haute résolution. RS-50 Raster : Offre une métrologie à haute vitesse et sans contact de toute la surface de la plaquette, y compris le substrat, les plots de contact et d'autres caractéristiques. STARFISH Edge Detection Machine : détecte automatiquement les bords des plaquettes afin de fournir des informations précises d'alignement pour les processus ultérieurs d'imagerie et de mesure. Microscopie à force latérale (LFM) : Permet de cartographier en temps réel les forces entre une pointe de sonde et la surface de la plaquette avec une résolution de 1 nanomètre ou moins. Balayage coaxial de la sonde : Couplée à LFM, cette fonction permet de contrôler la déviation de l'extrémité de la sonde afin de générer une carte topographique précise. FPD-JV1010 Miroir déformable : Utilisé pour contrôler l'angle d'incidence d'un faisceau optique focalisé en temps réel. Cela permet une imagerie simultanée à grande vitesse dans plusieurs directions. Microscope à force électrostatique (EFM) : Permet l'imagerie nano-échelle et l'analyse de surface en mode sans contact. Outil fluidique « Wafer level » : Grâce au réglage du vide et de la pression, ainsi que des clapets, cet atout permet un contrôle complet des niveaux de fluide. Ceci est utilisé pour délivrer avec précision des fluides, tels que des solutions polarisantes ou des fluides contenant des marqueurs, à la surface de la plaquette. VME Computer Based Data Acquisition and Control Model : Basé sur une architecture VME industrielle, cet ordinateur permet un contrôle en temps réel des opérations des instruments, ainsi que la collecte de données. Cet équipement d'essai et de métrologie offre une plate-forme polyvalente, précise et puissante pour un large éventail de besoins de caractérisation. Avec ses capacités d'imagerie avancées, ainsi que son large éventail d'options d'analyse, KLA OMNIMAP RS-55/TCA est parfaitement adapté aux applications de production et de recherche.
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Utilisé KLA / TENCOR / PROMETRIX Omnimap RS-55TCA Des produits
KLA / TENCOR / PROMETRIX
Omnimap RS-55TCA
Resistivity mapping system, 8" Wafer handler Cassette to Cassette Measurement 3-D Plots Contour Maps
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KLA / TENCOR
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Patterned wafer inspection system, 6"-8" Double darkfield inspection tool SECS II / GEM Communicatio
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WS 3880
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