Occasion CVC 601 #9123996 à vendre en France

Fabricant
CVC
Modèle
601
ID: 9123996
Taille de la plaquette: 6"
Sputtering system, 6" Physical vapor deposition system (3) DC Cathodes locations (1) RF Etch location CVC - 10 KW DC power supply Plasmatherm RF generator Type HFS 1000E (1.1Kw) Control cabinet diffusion pump.
CVC 601 est un équipement de pulvérisation utilisé dans le dépôt de couches minces. Il s'agit d'un système bi-magnétron à chambre unique conçu pour améliorer l'efficacité et la flexibilité des procédés de dépôt en couches minces. L'unité utilise une seule chambre à vide haute avec une alimentation intégrée et un générateur RF pour la pulvérisation à double magnétron. Il comporte une chambre rectangulaire ouverte, un évent intégré pour les matériaux pulvérisés, des orifices d'entrée de gaz en haut et en bas de la chambre, et un étage de réglage vertical pour le substrat. Pour déposer le film mince, on charge l'échantillon dans la chambre et on établit un vide. Le gaz d'argon est ensuite introduit dans la chambre et est pulvérisé par magnétron par deux générateurs RF basse fréquence (13,56 MHz). La puissance et la fréquence des magnétrons peuvent être ajustées pour un revêtement optimal. Les substrats sont placés sur une plate-forme qui est fixée à la distance désirée des cibles magnétron. La puissance RF est montée à la valeur désirée, et le matériau pulvérisé est recueilli sur le substrat lorsqu'un revêtement de dépôt est désiré. La machine à pulvériser 601 est très efficace et peut être utilisée pour divers procédés de dépôt en couches minces. Il bénéficie de taux de dépôt élevés et de faibles niveaux de charge du substrat, ce qui le rend idéal pour le dépôt de couches minces de haute qualité sur une variété de substrats. La grande taille de la chambre permet de pulvériser plusieurs substrats, ou un substrat encore plus grand peut être utilisé pour des revêtements plus importants. L'outil supporte également des taux de dépôt élevés avec une large gamme de puissances magnétron et la capacité de dépôt à haute et basse température. En outre, l'actif comporte également des procédés avancés tels que le co-dépôt et la pulvérisation par pulvérisation réactive. Dans l'ensemble, le modèle CVC 601 est un outil puissant et efficace pour diverses applications de dépôt en couches minces. C'est un outil très efficace et flexible qui peut déposer des revêtements de qualité sur une variété de matériaux.
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