Occasion STEAG / MICROTECH 9180038 #293625333 à vendre en France

L'équipement de photorésistance STEAG/MICROTECH 9180038 est un système de microlithographie de pointe conçu pour fournir aux professionnels de la gravure et de l'impression offset une imagerie rapide et haute résolution. L'unité de photorésistance utilise une technologie d'imagerie avancée pour permettre aux professionnels de l'impression et du graphisme de produire des images de haute qualité avec un degré de précision, de précision et de cohérence supérieur. La machine utilise une combinaison exclusive d'exposition, de microgravure et de photorésist pour permettre la production rapide et fiable d'images de micro-taille qui répondent aux exigences de l'industrie moderne de l'impression et du graphisme. L'outil de photorésistance STEAG 9180038 présente des paramètres physiques et d'exposition avancés qui permettent aux professionnels de l'impression et du graphisme de travailler avec des matériaux médiatiques avancés et d'obtenir des résultats cohérents. Ses paramètres avancés de micro-gravure et d'exposition permettent aux utilisateurs d'obtenir des résultats d'exposition très cohérents et précis avec des pertes d'exposition minimes. Cet atout est également conçu pour résister aux dommages causés par l'exposition au traitement médiatique, permettant aux utilisateurs d'obtenir des images reproductibles et de haute qualité. La vitesse d'exposition du modèle MICROTECH 9180038 est assez rapide pour gérer l'impression numérique et offset, sans sacrifier la résolution d'image. 9180038 matériel de photorésistance offre également une précision de masquage supérieure, assurant que les zones exposées et non exposées du support sont uniformément séparées. Le système comprend des outils logiciels puissants pour supporter le masquage et l'exposition, y compris le contrôle automatique de l'exposition, le contrôle amélioré de la résolution et de la profondeur, l'orientation automatique et le réglage du masquage, et plus encore. Les utilisateurs peuvent également personnaliser les intervalles de masquage pour des épaisseurs de médias spécifiques. L'unité de photorésistance STEAG/MICROTECH 9180038 offre également un décapage et un masquage entièrement automatisés pour assurer une exposition cohérente et fiable du substrat. De plus, les utilisateurs peuvent ajuster la vitesse d'exposition pour tenir compte de milieux de substrat spécifiques, ce qui leur permet d'obtenir une résolution plus élevée à chaque cycle d'exposition. La machine dispose également d'une fonction d'auto-calibrage intégrée pour garantir des expositions et des masques précis et reproductibles. STEAG 9180038 photorésist outil est une solution puissante, fiable et conviviale pour les professionnels de l'impression numérique et offset. Sa technologie de pointe et ses fonctionnalités personnalisables permettent aux utilisateurs de produire rapidement des impressions de haute qualité avec des détails, une précision et une cohérence supérieures. L'actif est conçu pour réduire les pertes d'exposition et fournir aux utilisateurs un moyen rentable d'obtenir des résultats cohérents et reproductibles.