Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #177672 à vendre en France

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ID: 177672
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1995
Sputtering system, 6" 1. ALCu(Clamp) 2. Wide-Ti(A101) 3. Wide-Ti(A101) 4. STD-AL-Si-Cu(Clamp) 5. - A. Pass B. Cool C. PC2 D. PC2 E. ORIENTER-DEGAS F. ORIENTER-DEGAS BUFFER: HP XFER: HP LL: NARROW MAGNET: DURA & G12 Pumps: EBARA AA40WN, AA40W, AA70W Missing: SBC FDD 24V Power supply Currently installed and shut down 1994 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de haute qualité conçu pour les procédés de dépôt de matériaux dans l'industrie des semi-conducteurs. Le réacteur offre des performances supérieures et un excellent support technique dans un emballage économique. AMAT ENDURA assure un contrôle précis de l'environnement de traitement sous vide et un choix optimal des procédés, des matériaux et des taux de dépôt. MATÉRIAUX APPLIQUÉS ENDURA utilise un système de distribution de gaz avec un effuseur multi-orifices, des soupapes de régulation de pression précises pour obtenir une régulation de pression précise, et une plaque de distribution de gaz uniforme pour obtenir une distribution de gaz uniforme. Il dispose également d'un effuseur multi-orifices, de plaques de dérivation, de sources de chauffage commandées par vanne, et d'une unité unique de distribution triple-source pour obtenir des résultats de dépôt uniformes. ENDURA est capable d'exécuter des processus CVD améliorés par la chaleur et le plasma, et sa capacité à accueillir un large éventail de matériaux pour le dépôt le rend idéal pour une variété d'applications. Chaque procédé peut être adapté pour optimiser la vitesse de dépôt, l'uniformité et la sélectivité. En outre, la grande fenêtre de processus et le contrôle précis des paramètres de processus permettent à l'utilisateur d'appliquer avec précision leur conception de processus spécifique. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur CVD ENDURA offre une stabilité thermique et une uniformité thermique supérieures sur sa grande capacité de substrat de 115 mm x 265 mm. Il utilise également un contrôle de débit avancé pour obtenir le schéma de débit le plus uniforme et un dépôt uniforme pour des rendements améliorés. La capacité de commande intelligente de la machine permet à l'utilisateur d'ajuster les fluides et les températures avec précision et rapidité, et son contrôle automatisé des processus minimise l'intervention de l'utilisateur et permet de gagner du temps. AMAT ENDURA CVD Reactor a été conçu pour être facile à utiliser, sûr, et fiable dans l'utilisation. Il offre un écran tactile intuitif de 10 pouces et une interface graphique avancée qui permet à l'utilisateur de valider rapidement les paramètres du processus et d'ajuster rapidement les paramètres au besoin. Il est également livré avec des fonctionnalités de sécurité avancées telles que l'arrêt automatique en cas d'erreur, et l'outil est équipé d'indicateurs d'alarme intégrés pour fournir un retour clair et précis en cas d'erreur. En conclusion, APPLIED MATERIALS ENDURA CVD Reactor est une solution idéale pour toute tâche de dépôt de matériaux dans l'industrie des semi-conducteurs. Il offre des performances supérieures, un excellent support technique et des caractéristiques de sécurité fiables dans un ensemble économique. Avec son contrôle précis de l'environnement des processus et ses capacités d'automatisation, ENDURA fournit à l'utilisateur un atout très efficace et rentable pour tous leurs besoins de processus de dépôt.
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Utilisé AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA Des produits

AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9105850

AMAT / APPLIED MATERIALS

ENDURA

Load Port Interface, 8" From 8" Endura CVD System (1) Prealigner: Kensington P/N: 25-3600-0300-03
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AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9116839

AMAT / APPLIED MATERIALS

ENDURA

PCII Chamber system.
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AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9202551

AMAT / APPLIED MATERIALS

ENDURA

PVD System AC Transformer.
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AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9202554

AMAT / APPLIED MATERIALS

ENDURA

System Includes: PVD Chamber Watercool HTHU chamber.
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