Occasion ASML XT 1400E #9381463 à vendre en France

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Fabricant
ASML
Modèle
XT 1400E
ID: 9381463
ArF Scanner, 12" Wafer type: Flat Laser type: CYMER Laser CYMER XLA 160+/165 (45W) OIU/Reticle-/Waf.aux.port: Left configuration CSR 8004 Various WH Carrier interface: (25) Wafer open cassette kit Wafer track interface: TEL Cleantrack Lithius / 200 Mark sensor Integrated reticle library Reticles twinscan IRIS, 6" ATASF ASF: IRIS-XT with PPD2 1 Second laser paddle (24) Char reticle barcode readers Recipe creator: Light PEP Option: Upgraded tpt, 6", 180 Wph Proximity matching Exposure ASF LS Spot coverage Reticle streaming Gridmapper Spotless (Not XT:1700Fi, XT:19x0xi) Chuck dedication Top package: Standard (Top 2) Enhance TPT reticle alignment 2DE Grid calibration Gas Life Extension (GLX) Dosemapper: Standard LPA Local sourcing Power: 400 V 2005 vintage.
ASML XT 1400E est un pas de plaquette haute performance spécialement conçu pour une production rapide et à haut volume de plaquettes. L'équipement dispose d'un niveau de masque de production de 0,7, avec une précision de focalisation de +/- 0,8 microns pour la production de plaquettes la plus précise possible. Le système est conçu pour maximiser le débit de production, avec un scanner double champ optionnel, permettant aux utilisateurs d'augmenter le nombre de champs séparés qui peuvent être exposés à la fois. L'unité est basée sur deux éléments optiques majeurs ; une machine de distribution du faisceau émis par la source et un laser excimère pour l'exposition. L'outil de livraison de faisceau utilise un actif télescopique f-Theta, assurant le plus haut niveau de précision avec des aberrations minimales. Ceci minimise la distorsion des plaquettes et assure des débits élevés avec un mouvement de réticule minimal. Le sous-système d'exposition contient un laser 1200W excimère, fournissant des niveaux de puissance de pointe de l'industrie pour l'imagerie plus rapide des plaquettes. Le modèle est exploité par ordinateur avec une interface d'opérateur conviviale. Bien que le laser soit programmable, il peut également être ajusté manuellement si les fabricants exigent une exposition personnalisée. XT 1400E est conçu pour un rendement de production maximal. L'équipement peut surveiller et ajuster la puissance laser en temps réel, ajustant automatiquement les temps d'exposition pour la production de plaquettes la plus efficace. Il dispose également d'une serrure intégrée pour la manutention des plaquettes, minimisant le risque de contamination. Le système comprend également une unité de manutention automatique des colonnes pour assurer la plus grande précision pendant la production. En plus des capacités de production standard, ASML XT 1400E comprend des fonctionnalités supplémentaires conçues pour réduire les temps d'arrêt. La machine comprend un outil d'automatisation qui permet à l'opérateur de surveiller les performances et de détecter rapidement tout problème potentiel. De plus, un outil de diagnostic intégré permet au technicien d'assurer rapidement les opérations de maintenance et de contrôle. XT 1400E est un pas de plaquette extrêmement précis et puissant, capable de fournir des performances de pointe de l'industrie avec un temps d'arrêt minimal et une production maximale. Avec un niveau de masque de production de 0,7 et une précision de focalisation de 0,8 microns, il est parfaitement adapté pour les lignes de production à haut volume.
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Utilisé ASML XT 1400E Des produits

ASML XT 1400E #9383074

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ArF Scanner, 12" 2006 vintage.
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ASML XT 1400E #9289674

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Lithography system, 12" In-line SMIF Automation online component: SECE Reticle size, 6" Wafer type:
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XT 1400E

Lithography system, 12" SMIF / FOUP ARF Scanner Projection lens: RMS Z5-Z37 : 3.16 nm RMS Spherical
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XT 1400E

Lithography system, 12" 2005 vintage.
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